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A continuación, se describen los 3 principales métodos empleados en
la actualidad, sin mencionar las modificaciones que en forma particular
han hecho algunos fabricantes.
5-2-1.- Depósito interno de vapores químicos
En este proceso, el polvo de dióxido de silicio adicionado con
dióxido de germanio es depositado en capas sobre la pared interior de un
tubo de cuarzo con diámetro aproximado de 8 mm, que gira sobre su eje y
es calentado de 1600 a 2400 ºC por medio de un quemador externo, tal como
se ilustra en la figura 5-11.
Figura 5-11.- Depósito Interno de Vapores.
Para un depósito adecuado, por un lado del tubo se hace circular
una mezcla gaseosa de
y
en donde el oxígeno actúa como
portador.
El quemador oxhídrico hace que se deposite una capa de vidrio
sintético en la superficie interior del tubo, esto se repite
sucesivamente dependiendo del número de capas del revestido y del núcleo,
y de acuerdo al perfil del índice de refracción requerido. Se depositan
primero las capas del revestido, que no solamente ayudan a guiar la luz
por el núcleo de la fibra sino que además impiden la difusión de iones OH
desde el tubo de vidrio, lo que aumentaría la atenuación de la fibra.
4
SiCl
4
GeCl
